加工定制：是	型号：安峰	进水压力：0.3（Mpa） Mpa
电压：220-380（V） V	额定产水量：0.25-100T（/h）（m3/h） m3/h	膜对数：*
规格：标准	工作水温：常温（℃） ℃	原水含盐量：*（mg/L） mg/L

GE通用标准EDI CEDI 电渗析设备苏州/上海/无锡/江苏工业水处理详细介绍

EDI水处理设备(超纯水EDI设备)的应用领域

EDI作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用超纯水。

EDI超纯水设备技术本质及工作原理
连续电除盐（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水。又可以比较清晰地描述如下：EDI是利用阴、阳离子膜，采用对称堆放的形式，在阴、阳离子膜中间夹着阴、阳离子树脂，分别在直流电压的作用下，进行阴、阳离子交换。而同时在电压梯度的作用下，水会发生电解产生大量H+和OH-，这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生。由于EDI不停进行交换——再生，使得纯水度越来越高，所以，***的产生了高纯度的超纯水。

微电子产品、半导体、显象管等制造业工业生产用高纯水电子工业用超纯水设备

1、电子工业用超纯水概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

2.制备电子工业用超纯水的工艺流
电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：
   1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
   2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
   3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

3.电子超纯水设备特点
设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

4.电子工业用超纯水的应用领域
     1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
   2、超纯材料和超纯化学试剂；
   3、实验室和中试车间；
   4、汽车、家电表面抛光处理；
   5、光电产品；
   6、其他高科技精微产品；

苏州安峰环保技术有限公司，拥有2000多平方米的现代化制造装配厂房，专注生物医药行业纯化水系统，负责客户设计制造、调试、GMP验证等全程跟踪服务。

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